應用范圍:高真空快速CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-RTP-C3HV是由4″RTP爐、三通道混氣系統(tǒng)和高真空機組組成,可進行半導體基片、太陽能電池及其它樣品(尺寸可達3″ )的退火,并采用 10KW的紅外燈進行加熱,最快升溫速度可達 120℃/s,配有RS485 接口,可以通過控制軟件在計算機上控制運行并顯示溫度曲線。
產品型號:OTF-1200X-4-RTP-C3HV
上架時間:2020-04-16
| 功能特點 |
|---|
| 技術參數 | |
|---|---|
| 安裝條件 | 本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 |
| 水 | 不需要。 |
| 電 | AC220V 50Hz,必須有良好接地 |
| 氣 | 設備腔室內需充注氣體,需自備氣瓶氣源 |
| 工作臺 | 尺寸1600mm×600mm×700mm,承重150kg以上 |
| 通風裝置 | 需要 |
| 電源 | 單相208V-240V AC 50Hz/60Hz 10KW |
| 石英管 | 外徑?110mm,內徑?103mm,長380mm |
| 加熱元件 | 8根紅外燈管,燈絲長200mm,絲圈?10mm,燈長300mm |
| 加熱區(qū) | 300mm |
| 工作溫度 | 最高溫度1100℃ |
| 控溫精度 | ±0.5℃ |
| 最高升溫速度 | RT-800℃時為50℃/s,800℃-1000℃時為10℃/s |
| 溫控儀 | 可控硅(SCR)PID自動控制 |
| 溫控儀 | 可控硅(SCR)PID自動控制 |
| 真空法蘭 | 不銹鋼,帶有水冷接口和針閥,雙層高溫O型圈密封,長時間在>900℃條件下運行必須采用水冷,循環(huán)水流量為0.5m3/hr |
| 真空度 | 10-2torr(機械泵),10-5torr(分子泵) |
| 質量流量計 | 3個,MFC1范圍0-100sccm,MFC2范圍0-200sccm,MFC3范圍0-500sccm,精度1±%FS |
| 混氣罐 | ?80mm×120mm |
| 爐體尺寸 | 760mm×330mm×530mm |
| 爐體重量 | 45kg |
| 真空混氣系統(tǒng)尺寸 | 600mm×600mm×597mm |
| 真空混氣系統(tǒng)重量 | 75kg |
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